EUV关键技术有重磅突破 相关产业链上市公司受关注

据媒体报道，全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻（EUV）技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。据台积电透露，7nm EVU相比于7nm DUV晶体管密度提升20%，同等频率下功耗可降低6-12%。在7nm EUV工艺上成功完成流片，证明了新工艺新技术的可靠和成熟，为后续量产打下了坚实基础。

EUV是下一代光刻主流技术，可在大规模制造半导体时能够有效减少越来越高的成本和工艺复杂程度，EUV被业界认为是破除摩尔定律遇到阻碍的核心设备。业内预计2018年下半年到2019年，半导体厂商将会积极导入EUV设备，行业龙头ASML预计2018年EUV设备销售增长30%达到25台。真空装置是EUV光刻技术的必选项，EUV设备的放量将推动真空装置及清洗工艺等需求的明显增长，产业链相关公司望受益。

相关上市公司：

汉钟精机：公司是国内真空设备龙头公司。

至纯科技：公司半导体清洗设备工艺业内领先。